I'm Sorry For My Skin
I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask
Mask provides soothing and moisturizing for irritated and dehydrated skin.
6
Bien
13
Neutre
0
Mise en garde
0
Éviter
32% bien
68% neutre
0% mise en garde
0% éviter
Score de formule
?
60
/100
Formule moyenne
Plus un ingrédient est tôt dans la liste = plus son poids dans le score est élevé
À propos du produit
- Marque
- I'm Sorry For My Skin
- Ingrédients
- 19
- Actifs
- 4
Liste des ingrédients — I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask
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Water
Aqua
solvant
→
Methylpropanediol
solvant
→
Dipropylene Glycol
masquage parfumage solvant contrôle de la viscosité
→
Laminaria Japonica Extract
protection de la peau
→
Eclipta Prostrata Leaf Extract
conditionnement de la peau
→
Acmella Oleracea Extract
protection de la peau
→
Artemisia Princeps Extract
conditionnement de la peau
→
Sodium Hyaluronate
humectant conditionnement de la peau
→
Hydrogenated Lecithin
émulsifiant conditionnement de la peau
→
Panthenol
Pro-Vitamin B5
antistatique conditionnement des cheveux conditionnement de la peau
→
Carbomer
stabilisateur d'émulsion formation de gel contrôle de la viscosité
→
Tromethamine
mise en mémoire tampon masquage
→
Saccharomyces Ferment Filtrate
humectant
→
Disodium EDTA
chélatant contrôle de la viscosité
→
Fructooligosaccharides
humectant conditionnement de la peau
→
Beta-Glucan
conditionnement de la peau
→
Hydrolyzed Hyaluronic Acid
conditionnement des cheveux humectant conditionnement de la peau
→
1,2-Hexanediol
conditionnement de la peau solvant
→
Hydroxyacetophenone
antioxydant
→
Состав
Water, Methylpropanediol, Dipropylene Glycol, Laminaria Japonica Extract, Eclipta Prostrata Leaf Extract, Acmella Oleracea Extract, Artemisia Princeps Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrogenated Lecithin, Panthenol, Carbomer, Tromethamine, Saccharomyces Ferment Filtrate, Disodium EDTA, Fructooligosaccharides, Beta-Glucan, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone
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