I'm Sorry For My Skin
I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask
Mask provides soothing and moisturizing for irritated and dehydrated skin.
6
Bom
13
Neutro
0
Precaução
0
Evitar
32% bom
68% neutro
0% precaução
0% evitar
Pontuação da fórmula
?
60
/100
Fórmula média
Quanto mais cedo na lista = maior o peso na pontuação
Sobre o produto
- Marca
- I'm Sorry For My Skin
- Ingredientes
- 19
- Activos
- 4
Lista de ingredientes — I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask
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Water
Aqua
solvente
→
Methylpropanediol
solvente
→
Dipropylene Glycol
mascaramento perfumar solvente controlo da viscosidade
→
Laminaria Japonica Extract
protecção da pele
→
Eclipta Prostrata Leaf Extract
condicionamento da pele
→
Acmella Oleracea Extract
protecção da pele
→
Artemisia Princeps Extract
condicionamento da pele
→
Sodium Hyaluronate
umectante condicionamento da pele
→
Hydrogenated Lecithin
emulsionante condicionamento da pele
→
Panthenol
Pro-Vitamin B5
antiestático cabelo condicionado condicionamento da pele
→
Carbomer
estabilização da emulsão formação de gel controlo da viscosidade
→
Tromethamine
tamponamento mascaramento
→
Saccharomyces Ferment Filtrate
umectante
→
Disodium EDTA
quelante controlo da viscosidade
→
Fructooligosaccharides
umectante condicionamento da pele
→
Beta-Glucan
condicionamento da pele
→
Hydrolyzed Hyaluronic Acid
cabelo condicionado umectante condicionamento da pele
→
1,2-Hexanediol
condicionamento da pele solvente
→
Hydroxyacetophenone
antioxidante
→
Состав
Water, Methylpropanediol, Dipropylene Glycol, Laminaria Japonica Extract, Eclipta Prostrata Leaf Extract, Acmella Oleracea Extract, Artemisia Princeps Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrogenated Lecithin, Panthenol, Carbomer, Tromethamine, Saccharomyces Ferment Filtrate, Disodium EDTA, Fructooligosaccharides, Beta-Glucan, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone
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