I'm Sorry For My Skin
I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask
Mask provides soothing and moisturizing for irritated and dehydrated skin.
6
Bien
13
Neutral
0
Precaución
0
Evitar
32% bien
68% neutral
0% precaución
0% evitar
Puntuación de fórmula
?
60
/100
Fórmula media
Cuanto antes aparece un ingrediente = mayor es su peso en la puntuación
Sobre el producto
- Marca
- I'm Sorry For My Skin
- Ingredientes
- 19
- Activos
- 4
Lista de ingredientes — I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask
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Water
Aqua
disolvente
→
Methylpropanediol
disolvente
→
Dipropylene Glycol
enmascaramiento perfumado disolvente control de la viscosidad
→
Laminaria Japonica Extract
protección de la piel
→
Eclipta Prostrata Leaf Extract
acondicionamiento de la piel
→
Acmella Oleracea Extract
protección de la piel
→
Artemisia Princeps Extract
acondicionamiento de la piel
→
Sodium Hyaluronate
humectante acondicionamiento de la piel
→
Hydrogenated Lecithin
emulsionante acondicionamiento de la piel
→
Panthenol
Pro-Vitamin B5
antiestático acondicionamiento del cabello acondicionamiento de la piel
→
Carbomer
estabilizante de emulsiones formación de gel control de la viscosidad
→
Tromethamine
almacenamiento en búfer enmascaramiento
→
Saccharomyces Ferment Filtrate
humectante
→
Disodium EDTA
quelante control de la viscosidad
→
Fructooligosaccharides
humectante acondicionamiento de la piel
→
Beta-Glucan
acondicionamiento de la piel
→
Hydrolyzed Hyaluronic Acid
acondicionamiento del cabello humectante acondicionamiento de la piel
→
1,2-Hexanediol
acondicionamiento de la piel disolvente
→
Hydroxyacetophenone
antioxidante
→
Состав
Water, Methylpropanediol, Dipropylene Glycol, Laminaria Japonica Extract, Eclipta Prostrata Leaf Extract, Acmella Oleracea Extract, Artemisia Princeps Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrogenated Lecithin, Panthenol, Carbomer, Tromethamine, Saccharomyces Ferment Filtrate, Disodium EDTA, Fructooligosaccharides, Beta-Glucan, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone
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