SON & PARK Beauty Full Mask Clean Type
Увлажняющая маска содержит гиалуроновую кислоту и смесь AHA из цветочного экстракта, которые помогают обновить тусклую кожу.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Portulaca Oleracea Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Ascorbic Acid, Caffeine
- emollient: Viola Tricolor Extract
- soothing: Allantoin
- buffering: Malic Acid, Tartaric Acid
Полный список ингредиентов: Water, Methylpropanediol, Agave Americana Stem Extract, Althaea Rosea Flower Extract, Rosa Damascena Flower Water, Agrimonia Eupatoria Extract, Melaleuca Alternifolia Leaf Extract, Portulaca Oleracea Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Hibiscus Sabdariffa Flower Extract, Crataegus Monogyna Flower Extract, Viola Tricolor Extract, Hydroxyacetophenone, Allantoin, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Propylene Glycol, Ascorbic Acid, Citric Acid, Malic Acid, Tartaric Acid, Xanthan Gum, Caffeine, Disodium EDTA, Phenoxyethanol, Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Parfum/Fragrance