Eclado Laboratory A.C Centella Mask: различия между версиями

Материал из Indecoder
Экспорт информации о продукте Eclado Laboratory A.C Centella Mask
 
Обновление семантической информации о продукте Eclado Laboratory A.C Centella Mask
 
Строка 9: Строка 9:
Price=Средний ценовой сегмент |
Price=Средний ценовой сегмент |
Country=Южнокорейская косметика
Country=Южнокорейская косметика
|Has ingredient=Вода
|Has ingredient=Глина
|Has ingredient=Дипропиленгликоль
|Has ingredient=Диметилсульфон
|Has ingredient=Глицерин
|Has ingredient=Бентонит
|Has ingredient=Цетеариловый спирт
|Has ingredient=1,2-Гександиол
|Has ingredient=Диоксид титана
|Has ingredient=Цетилэтилгексаноат
|Has ingredient=Экстракт центеллы Азиатской
|Has ingredient=Экстракт Хуттуйнии сердцевидной
|Has ingredient=LactobacillusSoybean Ferment Extract
|Has ingredient=Экстракт коры Salix Alba
|Has ingredient=Экстракт коры кассии коричной
|Has ingredient=Экстракт листьев душицы обыкновенной
|Has ingredient=Экстракт листьев хамесипариса туполистного
|Has ingredient=Экстракт корня щитовки байкальской
|Has ingredient=Экстракт портулака оливкового
|Has ingredient=Экстракт ламинарии наперстянковой
|Has ingredient=Экстракт ундарии перистой
|Has ingredient=Бутиленгликоль
|Has ingredient=Гиалуронат натрия
|Has ingredient=Масло семян макадамии трехлистной
|Has ingredient=Цетеарилоливат
|Has ingredient=Оливат сорбитана
|Has ingredient=Пантенол
|Has ingredient=Аллантоин
|Has ingredient=Полиакриламид
|Has ingredient=Изопарафин C13-14
|Has ingredient=Лаурет-7
|Has ingredient=Динатриевый ЭДТА
|Has ingredient=Хлорфенезин
|Has ingredient=Масло из листьев Мелалеуки разнолистной
}}
}}
Маска помогает удалить загрязнения из пор, одновременно контролируя выделение кожного сала и увлажняя кожу. Диметилсульфон, экстракт центеллы азиатской, экстракт Гуттуйнии и масло листьев чайного дерева помогают регулировать избыток кожного сала и устраняют угревую сыпь на коже.
Маска помогает удалить загрязнения из пор, одновременно контролируя выделение кожного сала и увлажняя кожу. Диметилсульфон, экстракт центеллы азиатской, экстракт Гуттуйнии и масло листьев чайного дерева помогают регулировать избыток кожного сала и устраняют угревую сыпь на коже.

Текущая версия от 23:48, 16 сентября 2024


Eclado Laboratory A.C Centella Mask
Производитель: Eclado Laboratory

Маска помогает удалить загрязнения из пор, одновременно контролируя выделение кожного сала и увлажняя кожу. Диметилсульфон, экстракт центеллы азиатской, экстракт Гуттуйнии и масло листьев чайного дерева помогают регулировать избыток кожного сала и устраняют угревую сыпь на коже.

Список ингредиентов

Ключевые ингредиенты:

Полный список ингредиентов: Water, Clay, Dipropylene Glycol, Dimethyl Sulfone, Glycerin, Bentonite, Cetearyl Alcohol, 1,2-Hexanediol, Titanium Dioxide, Cetyl Ethylhexanoate, Centella Asiatica Extract, Houttuynia Cordata Extract, Lactobacillus/Soybean Ferment Extract, Salix Alba Bark Extract, Cinnamomum Cassia Bark Extract, Origanum Vulgare Leaf Extract, Chamaecyparis Obtusa Leaf Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Portulaca Oleracea Extract, Laminaria Digitata Extract, Undaria Pinnatifida Extract, Butylene Glycol, Sodium Hyaluronate, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Cetearyl Olivate, Sorbitan Olivate, Panthenol, Allantoin, Polyacrylamide, C13-14 Isoparaffin, Laureth-7, Disodium EDTA, Chlorphenesin, Melaleuca Alternifolia Leaf Oil