Eclado Laboratory A.C Centella Mask
Маска помогает удалить загрязнения из пор, одновременно контролируя выделение кожного сала и увлажняя кожу. Диметилсульфон, экстракт центеллы азиатской, экстракт Гуттуйнии и масло листьев чайного дерева помогают регулировать избыток кожного сала и устраняют угревую сыпь на коже.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Centella Asiatica Extract, Houttuynia Cordata Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Portulaca Oleracea Extract, Melaleuca Alternifolia Leaf Oil
- skin-identical ingredient: Glycerin, Sodium Hyaluronate
- moisturizer/humectant: Panthenol
- soothing: Salix Alba Bark Extract, Allantoin
- sunscreen: Titanium Dioxide
Полный список ингредиентов: Water, Clay, Dipropylene Glycol, Dimethyl Sulfone, Glycerin, Bentonite, Cetearyl Alcohol, 1,2-Hexanediol, Titanium Dioxide, Cetyl Ethylhexanoate, Centella Asiatica Extract, Houttuynia Cordata Extract, Lactobacillus/Soybean Ferment Extract, Salix Alba Bark Extract, Cinnamomum Cassia Bark Extract, Origanum Vulgare Leaf Extract, Chamaecyparis Obtusa Leaf Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Portulaca Oleracea Extract, Laminaria Digitata Extract, Undaria Pinnatifida Extract, Butylene Glycol, Sodium Hyaluronate, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Cetearyl Olivate, Sorbitan Olivate, Panthenol, Allantoin, Polyacrylamide, C13-14 Isoparaffin, Laureth-7, Disodium EDTA, Chlorphenesin, Melaleuca Alternifolia Leaf Oil