Skin Ever Centella Repairing Clay Mask
Skin Ever Centella Repairing Clay Mask
Содержит экстракт центеллы азиатской, который мягко очищает кожу, уменьшает количество кожного жира, уменьшает шероховатость кожи и способствует самовосстановлению
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Chamomilla Recutita Flower Extract, Centella Asiatica Extract
- skin-identical ingredient: Glycerin
- antimicrobial/antibacterial: Lonicera Japonica Flower Extract
- soothing: Taraxacum Officinale Rhizome/Root Extract, Bisabolol
Полный список ингредиентов: Water, Kaolin, Ethylhexyl Palmitate, Propylene Glycol, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Dimethicone, Polysorbate 60, Sorbitan Stearate, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate, Chamomilla Recutita Flower Extract, Malva Sylvestris Flower Extract, Paeonia Lactiflora Root Extract, Lonicera Japonica Flower Extract, Taraxacum Officinale Rhizome/Root Extract, Viola Yedoensis Extract, Centella Asiatica Extract, Bisabolol, Xanthan Gum, Phenoxyethanol, Methylparaben, Propylparaben, Chlorphenesin, Parfum/Fragrance, Ci 77288