RNW Der. Clear AHA BHA PHA Peeling Mask
Отшелушивающая маска, которая помогает разгладить текстуру кожи, удаляя омертвевшие частички. Создана для увлажнения и успокоения кожи после пилинга.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Centella Asiatica Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita Flower Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract
- skin brightening: Glycyrrhiza Glabra Root Extract
- moisturizer/humectant: Lactic Acid
- preservative: Salicylic Acid
- buffering: Glycolic Acid
- chelating: Gluconolactone
Полный список ингредиентов: Water, Gluconolactone, Alcohol Denat., Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Lactic Acid, Glycolic Acid, Phenoxyethanol, Tromethamine, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Polysorbate 60, Sorbitan Isostearate, Salicylic Acid, Sodium Citrate, Disodium EDTA, Camellia Japonica Seed Oil, Simmondsia Chinensis Seed Oil, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Glycyrrhiza Glabra Root Extract, Chamomilla Recutita Flower Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract