M&S Formula Gentle Cleanse Exfoliating Polish

M&S Formula Gentle Cleanse Exfoliating Polish

Производитель: M&S Formula

Нежный отшелушивающий очищающий лак

Список ингредиентов

Ключевые ингредиенты:

• skin-identical ingredient: Glycerin

Полный список ингредиентов: Water, Glycerin, Perlite, Cetearyl Alcohol, Paraffinum Liquidum, Alumina, Caprylic/Capric Triglyceride, Dimethicone, Petrolatum, Phenoxyethanol, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate, Carbomer, Citric Acid, Parfum/Fragrance, Chlorphenesin, Caprylyl Glycol, Xanthan Gum, Disodium EDTA, Sodium Hydroxide