IWhite Korea Destress Mask
IWhite Korea Destress Mask
Инновационная маска-лист, которая восстанавливает кожу, подверженную стрессовым ситуациям.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Tocopheryl Acetate, Ascorbic Acid
- skin-identical ingredient: Glycerin, Sodium Hyaluronate, Linolenic Acid
- moisturizer/humectant: Panthenol
- soothing: Allantoin
Полный список ингредиентов: Water, Glycerin, Dipropylene Glycol, Hippophae Rhamnoides Fruit Extract, Sodium Hyaluronate, Betaine, Allantoin, Panthenol, Glutathione, Tocopheryl Acetate, Pyridoxine Hcl, Ascorbic Acid, Menadione, Linolenic Acid, Biotin, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Potassium Hydroxide, Xanthan Gum, Carbomer, Chlorphenesin, Phenoxyethanol, Disodium EDTA, Parfum/Fragrance