Neutrogena Deep Clean Purifying Wash-Off Clay Mask
Neutrogena Deep Clean Purifying Wash-Off Clay Mask
Эта смываемая глиняная маска для лица на 100% удаляет загрязнения, придавая вашей коже мягкость и здоровый вид.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Plukenetia Volubilis Seed Oil, Tocopherol
- skin-identical ingredient: Glycerin
- sunscreen: Titanium Dioxide
Полный список ингредиентов: Kaolin, Bentonite, Glycerin, Palmitic Acid, Glyceryl Stearate SE, 1,2-Hexanediol, Stearic Acid, Cetearyl Alcohol, Caprylic/Capric Triglyceride, Magnesium Aluminum Silicate, Phenoxyethanol, Caprylyl Glycol, Parfum/Fragrance, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Tromethamine, Disodium EDTA, Butyrospermum Parkii Butter, Plukenetia Volubilis Seed Oil, Sucrose Cocoate, Moringa Oleifera Seed Extract, Tocopherol, Titanium Dioxide, Ci 77007, Ci 77288