Simple Deep Cleanse Bubbling Mask
Simple Deep Cleanse Bubbling Mask
Вдохновленная корейскими ритуалами по уходу за кожей, эта маска была специально разработана для очищения вашей кожи, склонной к появлению прыщей, и увлажнения на 27 дней.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Caffeine, Tocopherol
- skin-identical ingredient: Glycerin
- moisturizer/humectant: Panthenol, Zinc Pca
- soothing: Allantoin, Hamamelis Virginiana Water
Полный список ингредиентов: Water, Glycerin, Butylene Glycol, Disiloxane, Decyl Glucoside, Sodium Cocoamphoacetate, Cocamidopropyl Betaine, Hydroxyacetophenone, Polyacrylamide, Panthenol, Xanthan Gum, C13-14 Isoparaffin, Phenoxyethanol, Zinc Pca, Sodium Chloride, Caffeine, Allantoin, Lauryl Glucoside, Sodium Cocoyl Glutamate, Sodium Lauryl Glucose Carboxylate, Caprylyl Glycol, Laureth-7, Hamamelis Virginiana Water, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA, 1,2-Hexanediol, Tocopherol