Etos Fresh Skin Purifying Clay Mask
Etos Fresh Skin Purifying Clay Mask
Помогает бороться с загрязнениями за счет добавления цинка и салициловой кислоты.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Tocopherol
- skin-identical ingredient: Glycerin
- moisturizer/humectant: Panthenol, Zinc Pca
- preservative: Salicylic Acid
Полный список ингредиентов: Water, Kaolin, Cetearyl Alcohol, Alcohol Denat., Helianthus Annuus Seed Oil, Glycerin, C12-15 Alkyl Benzoate, Butylene Glycol, Cetearyl Glucoside, Sesamum Indicum Seed Oil, Panthenol, Phenoxyethanol, Xanthan Gum, Copernicia Cerifera Wax, Salicylic Acid, Parfum/Fragrance, Zinc Pca, Sodium Cetearyl Sulfate, Enantia Chlorantha Bark Extract, Ethylhexylglycerin, Sodium Hydroxide, Tocopherol, Hexyl Cinnamal, Limonene, Pantolactone, Sodium Citrate, Citric Acid, Oleanolic Acid, Ci 77499, Ci 77891