SNP Pure Plain Calming Mask
SNP Pure Plain Calming Mask
Листовая маска с экстрактом центеллы азиатской успокаивает чувствительную кожу.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Houttuynia Cordata Extract, Portulaca Oleracea Extract, Centella Asiatica Extract
- skin-identical ingredient: Glycerin, Sodium Hyaluronate, Arginine
- moisturizer/humectant: Beta-Glucan, Dipotassium Glycyrrhizate
Полный список ингредиентов: Water, Glycerin, Propanediol, Glycereth-26, Thymus Vulgaris Leaf Extract, Houttuynia Cordata Extract, Portulaca Oleracea Extract, Beta-Glucan, Centella Asiatica Extract, Sodium Hyaluronate, 1,2-Hexanediol, Hexylene Glycol, Hydroxyacetophenone, Hydroxyethylcellulose, Trehalose, Xanthan Gum, C12-13 Pareth-9, Arginine, Carbomer, Spirulina Maxima Extract, Butylene Glycol, Dipotassium Glycyrrhizate, Sodium Phytate, Dipropylene Glycol, Parfum/Fragrance