RNW Ganoderma Lucidum Mask

RNW Ganoderma Lucidum Mask

Производитель: RNW

Листовая маска с экстрактом стеблей грибов для повышения увлажненности кожи.

Список ингредиентов

Ключевые ингредиенты:

• skin-identical ingredient: Glycerin, Sodium Hyaluronate, Arginine
• moisturizer/humectant: Panthenol, Dipotassium Glycyrrhizate
• soothing: Allantoin

Полный список ингредиентов: Water, Glycerin, Dipropylene Glycol, Ganoderma Lucidum Stem Extract, Panthenol, Trehalose, Allantoin, 1,2-Hexanediol, Methylpropanediol, Propanediol, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Pvm/Ma Copolymer, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydroxyethylcellulose, Carbomer, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Arginine, Hydroxyacetophenone, Butylene Glycol, Parfum/Fragrance