Meseoestetic Anti-stress Mask
Идеальное средство для ухода за кожей в домашних условиях после процедуры, в состоянии стресса или при чрезмерном воздействии кислот/ретинолов. Питайте и защищайте кожу с помощью мезоэстетической антистрессовой маски, которая вернет вашей коже здоровье благодаря сочетанию растительных экстрактов и питательных компонентов.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Rhodosorus Marinus Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract, Ascorbic Acid, Calendula Officinalis Flower Extract, Tocopherol, Tocopheryl Acetate
- skin-identical ingredient: Glycerin
- moisturizer/humectant: Aloe Barbadensis Leaf Juice Powder
- preservative: Lactobacillus Ferment
- soothing: Alteromonas Ferment Extract
Полный список ингредиентов: Water, Propanediol, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, PEG-7 Glyceryl Cocoate, Tridecyl Stearate, Aloe Barbadensis Leaf Juice Powder, Rhodosorus Marinus Extract, Chamomilla Recutita Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract, Ascorbyl Palmitate, Ascorbic Acid, Alteromonas Ferment Extract, Biosaccharide Gum-2, Calendula Officinalis Flower Extract, Tocopherol, Lactobacillus Ferment, Crocus Sativus Flower Extract, Tocopheryl Acetate, Tridecyl Trimellitate, PEG/PPG-14/4 Dimethicone, Saccharide Isomerate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Acrylamide/Sodium Acryloyldimethyltaurate Copolymer, Propylene Glycol, Isohexadecane, Dipentaerythrityl Hexacaprylate/Hexacaprate, Menthyl Lactate, Sodium Hydroxide, Disodium EDTA, Helianthus Annuus Seed Oil, Polysorbate 80, Maltodextrin, PEG-8, Sorbitan Oleate, Butylene Glycol, Citric Acid, Sodium Citrate, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol