W7 Photoshoot Foundation
W7 Photoshoot Foundation
Эта ультрадолгостойкая основа для макияжа, разработанная специально для длительного использования, является идеальной стойкой основой для вашего макияжа.
Список ингредиентов
Ключевые ингредиенты:
- antioxidant: Tocopheryl Acetate
- sunscreen: Ethylhexyl Methoxycinnamate, Benzophenone-3
Полный список ингредиентов: Water, Cyclopentasiloxane, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Isododecane, Cyclohexasiloxane, Polycyclopentadiene, Benzophenone-3, Polyglyceryl-4 Isostearate, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Hexyl Laurate, Tocopheryl Acetate, Hydrogenated Microcrystalline Wax, Phenoxyethanol, Disteardimonium Hectorite, Methylparaben, Disodium EDTA, Alumina, Propylene Carbonate, Butylparaben, Ethylparaben, Propylparaben, Dimethicone, Ci 77891, Iron Oxides